(3)勾胶机半导体材料制备的基础工艺设备之一，用于在半导体材料表面均匀涂抹胶液即在高速旋转的基片L，滴注各类胶液，利离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂拟在基片上，可通过调节转速及时间控制胶液的厚度。

　　(4)刻蚀机刻蚀工艺的主要设备之一，用于半导体材料表面有选择地把没有被抗蚀剂掩蔽的那一部分薄膜层除去，从Ifli'在薄膜上得到和抗浊剂膜上完全一致的图形。本实训平台采丨H湿法刻蚀机，用稀释的氢氟酸、液体氧化钠进行实践操作。

　　(5)纯水机制备实验室纯水的设备，采用多级滤芯进行水质净化处理，不添加化学物质的过滤、吸附、反渗透等物理方法本实训平台的纯水机制备的水质达15兆欧，符合电子行业生产所需超纯水水质要求。(6)磁控溅射沉积系统。制模工艺的主要设备之一，是利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材，最终沉积在半导体材料表面，形成薄膜。本实训平台采用磁控溅射沉积系统。

　　(7)真空镀膜机。制模工艺的主要设备之一，是利用加热使靶材表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，最终沉积在半导体材料表面，形成薄膜。

　　(8)等离子化学气相沉积台。制模工艺的主要设备之一，是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，在基片上沉积所期望的薄膜本实训平台内主要配备氮气、氧气、硅烷等气体，主要制备氮化硅薄膜。

　　5教学运行

　　目前，微电子技术实训课程主要涵盖了三个层次，有步骤地、系统地、全面地提高学生的实践创新能力。

　　(丨)工程意识的培养。初步获得微电子生产制造工艺的基础知识，了解生产过程和最新技术，初步接触微电子专业设备及系统的设计，制作过程和运行方式。该层次实训课程主要以工程背景认识、环境设备介绍为主，培养学生建立责任、质fl、安全、创新、群体、社会竞争等工程意识和程素质。

　　(2)实践能力的培养。主要让学生了解整个工艺流程，做若干独立的实训项目，熟悉相关仪器设备的操作。该层次实训课程主要是在教师示范的基础上，学生通过观察，模仿操作，独立完成实训项目，培养学生的工程实践技能。

　　(3)综合创新能力的培养。主要让学生面对工程实际问题，自行确定目标方案，设计产品参数，整理制作结果并进行调试分析，提交分析报告，该层次实训课程主要以扩充理论教学为基础，使学生综合利叫专业知识进行自主设计实训方案，培养学生的独立操作和团队协作等综合能力。

　　6共建共用，资源共享

　　实训平台作为实践教学和科研创新场所，投入大，技术要求高，我们通过充分论证和协商建设完成。我们与相关学院开展项目共建、资源共用、利益共享，充分利用了教学环境，避免了仪器设备的重复购置，提高了设备的使用效率。目前，实训平台一方面与学院合作开设相关专业实验实训课程?，另一方面，独立开设微电子技术实训课程，并在进一步完善的基础上，寻求与企业的广泛合作。

　　为了充分发挥平台的作用，我们努力建设“双师型”的教师队伍，确保教学质量。同时，我们按照生产车间的要求和标准制定了详细的管理制度和操作规程，实行准企业化管理。

　　7实施效果

　　通过程实践教学创新模式的实践探索，课程教学顺利推进。目前，微电子技术实训平台每学期共承担两门课程240学时的实训教学任务，并对学生创新训练开放。课程的满意度达98%以上。通过实训课程的学习，学生可以熟悉集成电路图案转移、光刻和硅热氧化等技术工艺，并完成半导体二极管、晶体三极管和简易太阳能电池等元器件的制作与测试，使学生身临其境地体验企业生产氛围，解决了企业直接承担课程的闲难和矛盾，使理论与实践得到充分结合，效果显著。

　　8结语

　　未来建设过程中还将围绕实训平台建立多元化学习机制、实行全方位开放使用，紧密围绕CDIO教育理念，深人研究实践教学模式，大力培养适应职业岗位需求的高技能应用型创新人才。